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等離子去膠機通過等離子體技術實現材料表面光刻膠或有機污染物的去除，其核心功能依賴于多個精密部件的協同工作。真空腔室是其核心區域，為等離子體生成與材料處理提供密閉...
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等離子清洗機是一種利用氣體等離子體進行表面處理的設備，它通過能量轉換技術將氣體轉化為活性高的等離子體，這些等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面，實現超清洗、活化、刻蝕等處理效果。作為干法處理設備，等離子清洗機全程無需化學溶劑，在干燥環境下完成處理，樣品處理后可直接進入下一道工序。01國產等離子清洗機的技術特色國產等離子清洗機在技術上實現了顯著突破，采用高頻電源驅動和智能控制系統，大大提升了清洗效率與穩定性。設備利用氣體作為處理介質，有效避免了樣品二次污染，其清洗能力可達分子級，能夠...
[查看詳情]應用案例
等離子清洗特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料等都能很好地進行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機對陶瓷基板上銀氧化層的清洗實例。
等離子清洗機可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學元件、半導體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機對PCB板和硅片的去膠實例。
改善粘合力-用于光學元件、生物醫學、封裝領域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強表面粘附性、浸潤性、相容性；
圖為PLUTO-M對線路板、橡膠管和手機膜的表面改性實例。
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見的一種形式，其原理是暴露在電子區域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
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